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TiAl3 formation kinetic in sputtered Ti/AlCu0.5% thin films
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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SOLID-PHASE EPITAXIAL-GROWTH OF GE-SI ALLOYS MADE BY ION-IMPLANTATION
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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TiAl sub 3 formation kinetic in sputtered Ti/AlCu0.5% thin films
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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TiAl 3 formation kinetic in sputtered Ti/AlCu0.5% thin films
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Low temperature dopant activation of BF2 implanted silicon
Veröffentlicht in Journal of electronic materials
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APPLICATION OF STEAM TURBINES SIMULATION MODELS IN POWER GENERATION SYSTEMS
Veröffentlicht in Revista de Engenharia Térmica
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