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Relaxation effects in NMOS transistors after hot-carrier stressing
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
VolltextArtikel -
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The effect of substrate bias on hot-carrier damage in NMOS devices
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
VolltextArtikel -
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Hot-carrier stressing damage in wide and narrow LDD NMOS transistors
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
VolltextArtikel -
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