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Angle-resolved SIMS studies of organic monolayers on Ag(111)
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Reduction of boride enhanced diffusion in MeV-implanted silicon
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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SiO sub(2) thickness determination by X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy, secondary ion mass spectrometry, Rutherford backscattering, transmission electr...
Veröffentlicht in Journal of vacuum science & technology. B, Microelectronics processing and phenomena
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Efficient Activation of Apoptotic Signaling during Mitotic Arrest with AK301
Veröffentlicht in PloS one
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