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Metal-Organic CVD of Conductive and Crystalline Hafnium Nitride Films
Veröffentlicht in Chemical vapor deposition
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Mononuclear precursor for MOCVD of HfO2 thin films
Veröffentlicht in Chemical communications (Cambridge, England)
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Guanidinato-based precursors for MOCVD of metal nitrides (M x N: M = Ta,W)
Veröffentlicht in Surface & coatings technology
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