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Plasma processing of low-k dielectrics
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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Pseudogap in a thin film of a conventional superconductor
Veröffentlicht in Nature communications
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Atomic Layer Deposition of TiO2 on Surface Modified Nanoporous Low‑k Films
Veröffentlicht in Langmuir
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Effect of Pore Structure of Nanometer Scale Porous Films on the Measured Elastic Modulus
Veröffentlicht in Langmuir
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Metal-Organic Framework ZIF‑8 Films As Low‑κ Dielectrics in Microelectronics
Veröffentlicht in Chemistry of materials
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Capacitance measurements and k-value extractions of low- k films
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Quantification of processing damage in porous low dielectric constant films
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Influence of porosity on electrical properties of low-k dielectrics
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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