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Wafer Redeposition Impact on Etch Rate Uniformity in IPVD System
Veröffentlicht in IEEE transactions on plasma science
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Coupling and Shielding Properties of the Baffle in ICP System
Veröffentlicht in Modelling and Simulation in Engineering
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Simulation and Characterization of IPVD System with External ICP Antenna
Veröffentlicht in Plasma processes and polymers
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Coupling and Shielding Properties of the Baffle in ICP System
Veröffentlicht in Modelling and simulation in engineering
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