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    Mechanism of residue formation on Ge-rich germanium antimony tellurium alloys after plasma etching

    Mechanism of residue formation on Ge-rich germanium antimony tellurium alloys after plasma etching von Fontaine, Benjamin, Boixaderas, Christelle, Dubois, Jérôme, Gouraud, Pascal, Rival, Arnaud, Posseme, Nicolas


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    Study of Ge-rich GeSbTe etching process with different halogen plasmas

    Study of Ge-rich GeSbTe etching process with different halogen plasmas von Canvel, Yann, Lagrasta, Sébastien, Boixaderas, Christelle, Barnola, Sébastien, Mazel, Yann, Martinez, Eugénie


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    Modification of Ge-rich GeSbTe surface during the patterning process of phase-change memories

    Modification of Ge-rich GeSbTe surface during the patterning process of phase-change memories von Canvel, Yann, Lagrasta, Sébastien, Boixaderas, Christelle, Barnola, Sébastien, Mazel, Yann, Dabertrand, Karen, Martinez, Eugénie

    Veröffentlicht in Microelectronic engineering

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    Electronic component manufacturing method

    Electronic component manufacturing method von Barnola, Sebastien, Lagrasta, Sebastien, Boixaderas, Christelle, Canvel, Yann

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    ELECTRONIC COMPONENT MANUFACTURING METHOD

    ELECTRONIC COMPONENT MANUFACTURING METHOD von BOIXADERAS, Christelle, CANVEL, Yann, BARNOLA, Sebastien, LAGRASTA, Sebastien

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    Electronic component manufacturing method

    Electronic component manufacturing method von Barnola, Sebastien, Lagrasta, Sebastien, Boixaderas, Christelle, Canvel, Yann

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    ELECTRONIC COMPONENT MANUFACTURING METHOD

    ELECTRONIC COMPONENT MANUFACTURING METHOD von Barnola, Sebastien, Lagrasta, Sebastien, Boixaderas, Christelle, Canvel, Yann

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    PROCEDE DE FABRICATION D'UN COMPOSANT ELECTRONIQUE

    PROCEDE DE FABRICATION D'UN COMPOSANT ELECTRONIQUE von BOIXADERAS, CHRISTELLE, BARNOLA, SEBASTIEN, CANVEL, YANN, LAGRASTA, SEBASTIEN

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