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Design Of Ion-implanted MOSFET's with Very Small Physical Dimensions
Veröffentlicht in Proceedings of the IEEE
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Design of ion-implanted MOSFET's with very small physical dimensions
Veröffentlicht in IEEE journal of solid-state circuits
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Highly selective KOH-based etchant for boron-doped silicon structures
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Passive laser-fiber alignment by index method
Veröffentlicht in IEEE photonics technology letters
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Ink jet printing nozzle arrays etched in silicon
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Topology of Silicon Structures with Recessed SiO2
Veröffentlicht in Journal of the Electrochemical Society
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Ion implanted MOSFET's with very short channel lengths
Veröffentlicht in IEEE Solid-State Circuits Society Newsletter
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Silicon charge electrode array for ink jet printing
Veröffentlicht in IEEE transactions on electron devices
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Charge in SiO[sub 2]-Al[sub 2]O[sub 3] Double Layers on Silicon
Veröffentlicht in Journal of the Electrochemical Society
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Topology of Si Structures With Recessed SiO2
Veröffentlicht in Journal of the Electrochemical Society
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