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5 nm ruthenium thin film as a directly plateable copper diffusion barrier
Veröffentlicht in Applied physics letters
VolltextArtikel -
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Electrodeposition of Copper Thin Film on Ruthenium
Veröffentlicht in Journal of the Electrochemical Society
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Interfacial Diffusion Studies of Cu∕(5 nm Ru)∕Si Structures
Veröffentlicht in Journal of the Electrochemical Society
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Cells Deploy a Two-Pronged Strategy to Rectify Misfolded Proinsulin Aggregates
Veröffentlicht in Molecular cell
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