Suchergebnisse - Anurag, Ashay | OPAC THWS

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Selective pulsed chemical vapor deposition of water-free HfOx on Si in preference to SiCOH and passivated SiO2 von Choi, Jong Youn, Ahles, Christopher F., Cho, Yunil, Anurag, Ashay, Wong, Keith T., Nemani, Srinivas D., Yieh, Ellie, Kummel, Andrew C.

Veröffentlicht in Applied surface science

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Proximity Effects of the Selective Atomic Layer Deposition of Cobalt on the Nanoscale: Implications for Interconnects von Breeden, Michael, Wang, Victor, Spiegelman, Jacob, Anurag, Ashay, Wolf, Steven F., Moser, Daniel, Kanjolia, Ravindra K., Moinpour, Mansour, Woodruff, Jacob, Nemani, Srinivas, Wong, Keith, Winter, Charles H., Kummel, Andrew C.

Veröffentlicht in ACS applied nano materials

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3

Passivation of silicon dioxide defects for atomic layer deposition von Breeden, Michael, Anurag, Ashay, Kummel, Andrew, Wolf, Steven

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Passivation of Silicon Dioxide Defects for Atomic Layer Deposition von Breeden, Michael, Anurag, Ashay, Kummel, Andrew, Wolf, Steven

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5

METHOD FOR DEPOSITION OF HIGHLY SELECTIVE METAL FILMS von KUMMEL, Andrew, UEDA, Scott T, MOINPOUR, Mansour, WOODRUFF, Jacob, KANJOLIA, Ravindra, BREEDEN, Michael, ANURAG, Ashay, WOLF, Steven

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METHOD FOR DEPOSITION OF HIGHLY SELECTIVE METAL FILMS von KUMMEL, Andrew, UEDA, Scott T, MOINPOUR, Mansour, WOODRUFF, Jacob, KANJOLIA, Ravindra, BREEDEN, Michael, ANURAG, Ashay, WOLF, Steven

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METHOD FOR DEPOSITION OF HIGHLY SELECTIVE METAL FILMS von KUMMEL, Andrew, UEDA, Scott T, MOINPOUR, Mansour, WOODRUFF, Jacob, KANJOLIA, Ravindra, BREEDEN, Michael, ANURAG, Ashay, WOLF, Steven

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METHOD FOR DEPOSITION OF HIGHLY SELECTIVE METAL FILMS von KUMMEL, Andrew, UEDA, Scott T, MOINPOUR, Mansour, WOODRUFF, Jacob, KANJOLIA, Ravindra, BREEDEN, Michael, ANURAG, Ashay, WOLF, Steven

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금속막의 고선택적 퇴적 방법 von KUMMEL ANDREW, WOODRUFF JACOB, ANURAG ASHAY, WOLF STEVEN, MOINPOUR MANSOUR, BREEDEN MICHAEL, KANJOLIA RAVINDRA, UEDA SCOTT T

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METHOD FOR DEPOSITION OF HIGHLY SELECTIVE METAL FILMS von KUMMEL ANDREW, WOODRUFF JACOB, ANURAG ASHAY, MOINPOUR MANSOUR, BREEDEN MICHAEL, KANJOLIA RAVINDRA, WOLFF STEVEN L, UEDA SCOTT T

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11

Method for highly selective deposition of metal films von BREEDEN, MICHAEL, ANURAG, ASHAY, WOLF, STEVEN, UEDA, SCOTT T, WOODRUFF, JACOB, KUMMEL, ANDREW, MOINPOUR, MANSOUR, KANJOLIA, RAVINDRA

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