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Phasendiffusion und Linienbreite beim Ein-Atom-Maser
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Antesberger, Gunter
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Mask with programmed defects and method for the fabrication thereof
von
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,
Antesberger, Gunter
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Heumann, Jan
,
Hennig, Mario
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Mask with programmed defects and method for the fabrication thereof
von
DETTMANN WOLFGANG
,
ANTESBERGER GUNTER
,
HEUMANN JAN
,
HENNIG MARIO
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Mask with programmed defects and method for the fabrication thereof
von
Dettmann, Wolfgang
,
Antesberger, Gunter
,
Heumann, Jan
,
Hennig, Mario
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Patent
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Mask with programmed defects and method for the fabrication thereof
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DETTMANN WOLFGANG
,
ANTESBERGER GUNTER
,
HEUMANN JAN
,
HENNIG MARIO
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Patent
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Product mask used in the production of microelectronics comprises a quartz layer, and a masking layer on the quartz layer for masking predetermined regions of the quartz layer to p...
von
HEUMANN, JAN
,
HENNIG, MARIO
,
DETTMANN, WOLFGANG
,
ANTESBERGER, GUNTER
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Maske mit programmierten Defekten und Verfahren zu deren Herstellung
von
HEUMANN, JAN
,
HENNIG, MARIO
,
DETTMANN, WOLFGANG
,
ANTESBERGER, GUNTER
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