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X-ray diffraction analysis of an osmium silicide epilayer grown on Si(1 0 0) by molecular beam epitaxy
von
Amir, F.Z.
,
Cottier, R.J.
,
Golding, T.D.
,
Donner, W.
,
Anibou, N.
,
Stokes, D.W.
Veröffentlicht in
Journal of crystal growth
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Molecular beam epitaxial growth of osmium silicides
von
Cottier, R. J.
,
Amir, F. Z.
,
Zhao, W.
,
Hossain, K.
,
Gorman, B. P.
,
Golding, T. D.
,
Anibou, N.
,
Donner, W.
Veröffentlicht in
Journal of vacuum science & technology. B, Microelectronics and nanometer structures processing, measurement and phenomena
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Journal Of Vacuum Science & Technology. B, Microelectronics And Nanometer Structures Processing, Measurement And Phenomena
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