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Raman Micro-analysis of Residual Stress in Semiconducting Materials and Devices
Veröffentlicht in Materia (Sendai. 1994)
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Effect of Nitrogen Doping in Insulational Character of Anodically Oxidized Film of Tantalum
Veröffentlicht in Hyomen Kagaku
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Measuring the Depth Profile of C in Ta Thin Films by SIMS
Veröffentlicht in Hyomen Kagaku
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