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Implementation of an ultra deep X-ray lithography (UDXRL) system at CAMD
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Chemical Detection with MOF-Functionalized Piezoresistive Microcantilever Arrays
von
Choudhury, Arnab
,
Hesketh, P.
,
Hu, Zhiyu
,
Thundat, Thomas
,
Bhakta, Raghunandan
,
Houk, R. J. T.
,
Skulan, Andrew
,
Aigeldinger, Georg
,
Talin, Albert
,
Allendorf, Mark
Veröffentlicht in
Meeting abstracts (Electrochemical Society)
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Artikel
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Vitreous carbon mask substrate for X-ray lithography
von
Aigeldinger, Georg
,
Skala, Dawn M
,
Griffiths, Stewart K
,
Talin, Albert Alec
,
Losey, Matthew W
,
Yang, Chu-Yeu Peter
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Patent
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Vitreous carbon mask substrate for X-ray lithography
von
AIGELDINGER GEORG
,
YANG CHU-YEU PETER
,
TALIN ALBERT ALEC
,
GRIFFITHS STEWART K
,
SKALA DAWN M
,
LOSEY MATTHEW W
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Patent
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Institute Of Physics
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