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HfSixOy-HfO2 Gate Insulator for Thin Film Transistors
Veröffentlicht in Journal of the Korean Physical Society
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Effect of Thermal Annealing on Sputtered a-Si Film
Veröffentlicht in Journal of the Korean Physical Society
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Study of HfO2 High-k Gate Oxide for Low-Temperature Poly-Si TFT
Veröffentlicht in Journal of the Korean Physical Society
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