Nd:YAG-PLD 法による in-situ ポストアニールプロセスを用いた MgB2 薄膜の作製 von 尾崎, 壽紀, 菊川, 悟志, 鶴田, 彰宏, 土屋, 雄司

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臨界電流非対称性の向上に向けた超伝導薄膜表面処理プロセスの開発 von 鶴田, 彰宏, 尾崎, 壽紀, 土屋, 雄司

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ワイヤレス電力伝送システムに向けた超電導ダイオードの研究開発 ―NEDO 未踏プロジェクトの成果と今後の展望 von 土屋, 雄司, 尾崎, 壽紀, 鶴田, 彰宏

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表面処理を施した高温超伝導REBa2Cu3Oy薄膜における面内磁場下での非対称磁束ピニング von 土屋, 雄司, 堀友, 秀, 鈴木, 啓介, 鶴田, 彰宏, 申, ウソク, 一野, 祐亮, 吉田, 隆

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微細組織制御による超伝導膜の臨界電流特性制御 von 一瀬, 中, 三浦, 峻, 杉原, 和樹, 鶴田, 彰宏, 一野, 祐亮, 吉田, 隆, 淡路, 智, 松本, 要

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セラミックス材料を接着部材として用いたレーザー局所加熱による異種材料間接合技術の開発 von 鶴田, 彰宏

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BaMO3(M=Zr, Sn, Hf)添加SmBa2Cu3Oy 薄膜における 格子ストレスとTc のBaMO3 材料依存性 von 鶴田, 彰宏, 吉田, 隆, 一野, 祐亮, 曽田, 昇吾, 一瀬, 中, 松本, 要, 淡路, 智

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高濃度BaHfO3 添加SmBa2Cu3Oy 薄膜における 磁束ピンニング特性と不可逆磁場曲線 von 鶴田, 彰宏, 吉田, 隆, 一野, 祐亮, 三浦, 峻, 一瀬, 中, 松本, 要, 淡路, 智

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ナノロッド形態制御による臨界電流特性の向上: 成長条件の制御による高密度ナノロッドの形成 von 一瀬, 中, 鶴田, 彰宏, 三浦, 峻, 一野, 祐亮, 吉田, 隆

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BaSnO3 添加Sm1+xBa2-xCu3Oy 薄膜の磁場中超伝導特性と微細構造観察 von 鶴田, 彰宏, 吉田, 隆, 一野, 祐亮, 一瀬, 中, 松本, 要, 淡路, 智

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市販REBa2Cu3Oy線材における非対称臨界電流 von 土屋, 雄司, 鶴田, 彰宏, 尾崎, 壽紀

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物理研磨による市販REBa2Cu3Oy線材の表面平坦性と臨界電流非対称性の向上 von 鶴田, 彰宏, 尾崎, 壽紀, 土屋, 雄司

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Novel Superconducting Devices for Wireless Power Transmission Systems Development of Superconducting Diodes von Yuji, TSUCHIYA, Toshinori, OZAKI, Akihiro, TSURUTA

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Nd:YAGレーザーを用いて作製したMgB2薄膜の超伝導特性 von 尾崎, 壽紀, 菊川, 悟志, 田中, 里佳, 山本, 明保, 鶴田, 彰宏, 土屋, 雄司

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スクリーン印刷で作製したNa0.5CoO2厚膜の熱電変換特性 von 鶴田, 彰宏, 田中, 未紀, 三上, 祐史, 杵鞭, 義明, 申, ウソク, 増田, 佳丈, 寺崎, 一郎

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表面処理を施した REBCO 薄膜における非対称臨界電流特性の向上 von 土屋, 雄司, 鈴木, 啓介, 鶴田, 彰宏, 申, ウソク, 一野, 祐亮, 吉田, 隆

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Development of Superconducting Thin Film Surface Treatment Process to Improve Critical Current Asymmetricity von Akihiro, TSURUTA, Toshinori, OZAKI, Yuji, TSUCHIYA

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室温強磁性酸化物Sr3.1Y0.9Co4O10.5 の元素置換による磁気転移制御 von 川崎, 修史, 鶴田, 彰宏, 三上, 祐史, 杵鞭, 義明, 増田, 佳丈, 藤田, 麻哉, 寺崎, 一郎

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導電性酸化物CaCu3Ru4O12が示す小さな熱膨張係数 von 鶴田, 彰宏, 野村, 勝裕, 三上, 祐史, 杵鞭, 義明, 寺崎, 一郎, 村山, 宣光, 申, ウソク

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Fabrication of MgB2 Thin Films Using Nd:YAG-PLD Method in an in-situ Post-annealing Process von Toshinori, OZAKI, Satoshi, KIKUKAWA, Akihiro, TSURUTA, Yuji, TSUCHIYA

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