4H-SiCウエハエッチングにおけるClF3ガス分散構造の設計と検証 von 林, 優也, 羽深, 等, 高橋, 至直, 加藤, 智久

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低濃度 ClF3 ガスによる SiC 膜脱離を活用した SiC エピ装置クリーニング von 間明田, 巧, 滝澤, 唯夏, 羽深, 等, 石黒, 暁夫, 石井, 成明, 醍醐, 佳明, 伊藤, 英樹, 水島, 一郎, 高橋, 至直

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三フッ化塩素ガスによる4H-SiCウエハエッチング速度と分布の調整方法 von 入倉, 健太, 林, 優也, 羽深, 等, 高橋, 至直, 加藤, 智久

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三フッ化塩素ガスによる大口径炭化ケイ素ウェハエッチング技術 von 川崎, 稜平, 謝, 林生, 林, 優也, 羽深, 等, 高橋, 至直, 加藤, 智久

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三フッ化塩素ガスを用いた直径200 mm炭化ケイ素ウェハエッチング装置の設計 von 川崎, 稜平, 羽深, 等, 高橋, 至直, 加藤, 智久

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SiC膜脱離を活用したSiCエピ成長装置の短時間クリーニング von 間明田, 巧, 林, 優也, 羽深, 等, 石黒, 暁夫, 石井, 成明, 醍醐, 佳明, 伊藤, 英樹, 水島, 一郎, 高橋, 至直

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三フッ化塩素ガスを用いた炭化珪素CVD装置高速クリーニング法 von 林, 優也, 間明田, 巧, 羽深, 等, 石黒, 暁夫, 石井, 成明, 醍醐, 佳明, 伊藤, 英樹, 水島, 一郎, 高橋, 至直

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三フッ化塩素ガスによる4H-SiCウエハエッチング速度分布におけるガス流量の効果 von 入倉, 健太, 奥山, 将吾, 羽深, 等, 高橋, 至直, 加藤, 智久

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三フッ化塩素ガスを用いた炭化珪素エピリアクタークリーニングにおける反応熱の影響 von 林, 優也, 羽深, 等, 倉島, 圭祐, 伊藤, 英樹, 三谷, 慎一, 水島, 一郎, 高橋, 至直

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炭化珪素エッチング条件における三フッ化塩素ガスに対する AlN の腐食性 von 春口, 瞳夕, 川崎, 稜平, 羽深, 等, 高橋, 至直

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三フッ化塩素ガスによる4H-SiCウェハエッチング分布の均一化 von 奥山, 将吾, 川崎, 稜平, 倉島, 圭祐, 羽深, 等, 高橋, 至直, 加藤, 智久

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三フッ化塩素ガスによる炭化珪素薄膜形成装置クリーニング方法開発 ―純化処理を施した熱分解炭素被膜の三フッ化塩素ガス耐腐食性... von 倉島, 圭祐, 羽深, 等, 伊藤, 英樹, 三谷, 慎一, 高橋, 至直

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三フッ化塩素ガスによるエッチング後の4H-SiCウエハ表面形態 von 奥山, 将吾, 羽深, 等, 高橋, 至直, 加藤, 智久

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熱分解炭素被覆サセプタを用いたSiCエピリアクター繰り返しクリーニング von 倉島, 圭祐, 羽深, 等, 伊藤, 英樹, 三谷, 慎一, 高橋, 至直

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炭化珪素エッチング装置における三フッ化塩素ガス供給設計 von 倉島, 圭祐, 奥山, 将吾, 羽深, 等, 高橋, 至直, 加藤, 智久

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ClF3ガスによるSiCエピリアクタークリーニングのためのサセプタ被膜耐腐食性調査 von 塩田, 耕平, 川崎, 稜平, 羽深, 等, 伊藤, 英樹, 三谷, 真一, 高橋, 至直

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熱分解炭素被覆サセプタを用いたSiCエピリアクタクリーニング von 塩田, 耕平, 倉島, 圭祐, 羽深, 等, 伊藤, 英樹, 三谷, 慎一, 高橋, 至直

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三フッ化塩素ガスによる炭化珪素表面における炭素膜の形成と除去 von 廣岡, 亜純, 羽深, 等, 高橋, 至直, 加藤, 智久

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SiCエピリアクタクリーニングのための熱分解炭素被膜耐腐食性調査 von 塩田, 耕平, 羽深, 等, 伊藤, 英樹, 三谷, 慎一, 高橋, 至直

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ClF3ガスによるSiCウエハのエッチング速度挙動 von 中込, 健, 倉島, 圭祐, 奥山, 将吾, 羽深, 等, 高橋, 至直, 加藤, 智久

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