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    An effective work-function tuning method of nMOSCAP with high-k/metal gate by TiN/TaN double-layer stack thickness

    An effective work-function tuning method of nMOSCAP with high-k/metal gate by TiN/TaN double-layer stack thickness von 马雪丽 杨红 王文武 殷华湘 朱慧珑 赵超 陈大鹏 叶甜春

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    The effects of process condition of top-TiN and TaN thickness on the effective work function of MOSCAP with high-k/metal gate stacks

    The effects of process condition of top-TiN and TaN thickness on the effective work function of MOSCAP with high-k/metal gate stacks von 马雪丽 杨红 王文武 殷华湘 朱慧珑 赵超 陈大鹏 叶甜春

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