348）CPR（心肺蘇生）講習会において患者・家族の意見から見えてきたこと: 過去６年間を振り返って von 草野, 玲奈, 山上, 美竹, 舟川, 裕香, 重松, 理恵, 上野, 栄一

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16aPS-4 ホイスラー合金Mn_2CoAl の物性 von 重松, 理史, 重田, 出, 梅津, 理恵, 伊藤, 昌和, 山内, 徹, 湯葢, 邦夫, 真中, 浩貴, 寺田, 教男, 廣井, 政彦

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7pPSA-91 ホイスラー合金Ru_<2-x>Fe_xCrSiの熱電特性(7pPSA 領域3ポスターセッション(スピントロニクス,表面・界面磁性,実験技術,磁性一般),領域3(磁性))... von 重松, 理史, 春森, 浩平, 西迫, 裕也, 重田, 出, 奥田, 哲治, 山内, 徹, 廣井, 政彦

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7pPSA-5 ホイスラー化合物Mn_2V_<2-x>Al_xの磁気および輸送特性(7pPSA 領域3ポスターセッション(スピントロニクス,表面・界面磁性,実験技術,磁性一般),領域3(磁性))... von 藤本, 祐太郎, 西迫, 裕也, 重松, 理史, 重田, 出, 梅津, 理恵, 山内, 徹, 湯葢, 邦夫, 伊藤, 昌和, 廣井, 政彦

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共通模擬事例に対する倫理問題検討による合意内容の多職種間比較研究 von 清水, 幸裕, 比嘉, 肖江, 野原, 良子, 河合, 皓太, 原, 浩美, 村上, 真由美, 重松, 理恵, 林, 茂, 大浦, 誠, 吉崎, 達郎, 佐藤, 幸浩, 浦風, 雅春, 清水, 一夫, 藤村, 隆, 比嘉, 勇人

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352）新ICU病衣の作成 von 富永, 弥生, 土開, 美和, 本波, さやか, 重松, 理恵, 上野, 栄一

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108)がん患者の家族へのインタビューから見えた遺族への援助 von 青山, 紀子, 重松, 理恵, 上野, 栄一

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67. 初期臨床研修「地域医療」研修の取り組みと医療連携 von 高松道生, 前田道宣, 重松理, 今井久, 山岸京子, 丸田正志

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3次元積層型CIS向け多元素分子イオン注入エピウェーハの特性（I） CH2P注入エピウェーハの注入レンジにおける水素脱離挙動の理論解析... von 奥山, 亮輔, 門野, 武, 柾田, 亜由美, 鈴木, 陽洋, 小林, 弘治, 重松, 理史, 廣瀬, 諒, 古賀, 祥泰, 栗田, 一成

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次世代CMOSイメージセンサ向け多元素分子イオン注入ウェーハにおける水素脱離挙動の反応速度論による解析と考察 von 奥山, 亮輔, 柾田, 亜由美, 重松, 理史, 廣瀬, 諒, 門野, 武, 古賀, 祥泰, 奥田, 秀彦, 栗田, 一成

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3次元積層型CIS向け分子イオン注入エピタキシャルウェーハの特性（I） -炭化水素分子イオン注入ウェーハによるSiO2/Si界面準位欠陥の低減... von 奥山, 亮輔, 門野, 武, 柾田, 亜由美, 鈴木, 陽洋, 小林, 弘治, 重松, 理史, 廣瀬, 諒, 古賀, 祥泰, 栗田, 一成

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高感度CMOSイメージセンサ向けシリコンウェーハの製品設計 -炭化水素分子イオン注入によるSiO2/Si界面準位の制御 von 奥山, 亮輔, 柾田, 亜由美, 鈴木, 陽洋, 小林, 弘治, 重松, 理史, 廣瀬, 諒, 門野, 武, 古賀, 祥泰, 栗田, 一成

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炭化水素分子イオン注入領域における銅ゲッタリングに対する3次元アトムプローブを用いた酸素の影響解析 von 重松, 理史, 奥山, 亮輔, 廣瀬, 諒, 柾田, 亜由美, 門野, 武, 小林, 弘治, 鈴木, 陽洋, 古賀, 祥泰, 栗田, 一成

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66)看護師の持続的血液浄化療法(CHDF) に対する不安に焦点を当てた支援の効果 von 七尾, 美樹, 坪田, 知美, 浦田, 千賀子, 小林, 幸子, 重松, 理恵, 上野, 栄一

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21)データマイニングによる研究テーマからみた院内看護研究の特徴と傾向 von 神保, 浩子, 重松, 理恵, 小林, 幸子, 上野, 栄一

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CMOSイメージセンサ向け分子イオン注入エピタキシャルウェーハの製品特性（II） –CH4Nイオン注入エピタキシャルウェーハの基礎特性 von 鈴木, 陽洋, 門野, 武, 廣瀬, 諒, 奥山, 亮輔, 柾田, 亜由美, 重松, 理史, 小林, 弘治, 古賀, 祥泰, 栗田, 一成

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CMOSイメージセンサ向け分子イオン注入エピタキシャルウェーハの製品特性（Ⅰ） -水素脱離挙動の反応速度論解析 von 奥山, 亮輔, 柾田, 亜由美, 鈴木, 陽洋, 小林, 弘治, 重松, 理史, 廣瀬, 諒, 門野, 武, 古賀, 祥泰, 栗田, 一成

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デバイス工程中の炭素クラスター注入領域の水素吸着脱離挙動解析 von 奥山, 亮輔, 柾田, 亜由美, 小林, 弘治, 重松, 理史, 廣瀬, 諒, 門野, 武, 古賀, 祥泰, 奥田, 秀彦, 栗田, 一成

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分子イオン注入エピウェーハの製品特性（４）-フラッシュランプ熱処理による注入欠陥の結晶性回復挙動解析 von 小林, 弘治, 奥山, 亮輔, 柾田, 亜由美, 重松, 理史, 廣瀬, 諒, 古賀, 祥泰, 奥田, 秀彦, 栗田, 一成

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2. 内分泌環境と抗加齢医学 von 橋爪, 潔志, 鈴木, 悟, 稲垣, 毅, 宮本, 高秀, 平松, 邦英, 小松, 亜位, 大岩, 亜子, 山崎, 雅則, 西尾, 真一, 稲葉, 秀文, 森, 淳一郎, 柿沢, 供子, 武田, 貞二, 重松, 理

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