アークプラズマによる酸化亜鉛導電膜機能設計 von 山本, 哲也, 野本, 淳一, 北見, 尚久, 酒見, 俊之, 牧野, 久雄, 小林, 啓介, 青木, 康, 岸本, 誠一

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酸素負イオン照射によるSn添加In2O3薄膜における縮退／非縮退評価ならびにバンドギャップ自在制御 von 古林, 寛, 前原, 誠, 酒見, 俊之, 北見, 尚久, 山本, 哲也

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酸素負イオン照射によるSn添加In2O3薄膜の非縮退化 von 古林, 寛, 前原, 誠, 酒見, 俊之, 北見, 尚久, 山本, 哲也

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W添加In2O3薄膜における高ホール移動度の起源 von 古林, 寛, 前原, 誠, 酒見, 俊之, 北見, 尚久, 山本, 哲也

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W 置換 In2O3 極薄膜におけるキャリア輸送特性の支配因子 von 古林, 寛, 前原, 誠, 酒見, 俊之, 北見, 尚久, 山本, 哲也

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反応性プラズマ蒸着法により成膜した W 添加 In2O3 極薄膜における高 Hall 移動度 von 古林, 寛, 前原, 誠, 北見, 尚久, 酒見, 俊之, 山本, 哲也

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Sn 添加 In2O3 非晶質薄膜における結晶化その場観察 von 古林, 寛, 小林, 信太郎, 前原, 誠, 北見, 尚久, 酒見, 俊之, 稲葉, 克彦, 山本, 哲也

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低膜厚 (< 50 nm) 錫添加 In2O3 非晶質膜における高ホール移動度 von 古林, 寛, 北見, 尚久, 酒見, 俊之, 木下, 公男, 前原, 誠, 牧野, 久雄, 山本, 哲也

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酸素負イオン照射した錫添加 In2O3薄膜における特異なキャリア輸送特性 von 古林, 寛, 北見, 尚久, 酒見, 俊之, 木下, 公男, 前原, 誠, 牧野, 久雄, 山本, 哲也

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グローバルモデルによるアフタアークプラズマにおける酸素負イオン生成支配因子 von 北見, 尚久, 野本, 淳一, 酒見, 俊之, 牧野, 久雄, 青木, 康, 山本, 哲也

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酸化亜鉛機能を生みだすフレキシブルコーティング技術 von 山本, 哲也, 野本, 淳一, 牧野, 久雄, 北見, 尚久, 酒見, 俊之, 佐藤, 哲

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時間分解プローブ及び RF プローブ法によるアフターアークプラズマにおける酸素負イオン生成機序の解明 von 北見, 尚久, 野本, 淳一, 酒見, 俊之, 牧野, 久雄, 青木, 康, 山本, 哲也

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直流マグネトロンスパッタ法による多結晶 Al 添加 ZnO 透明導電膜における配向秩序制御 von 野本, 淳一, 北見, 尚久, 渡辺, 剛, 牧野, 久雄, 酒見, 俊之, 山本, 哲也

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アフターアークプラズマ型酸素負イオン照射装置における時間分解プローブ測定 von 北見, 尚久, 野本, 淳一, 酒見, 俊之, 牧野, 久雄, 青木, 康, 山本, 哲也

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反応性プラズマ蒸着 (RPD)装置 von 木下, 公男, 前原, 誠, 酒見, 俊之, 北見, 尚久

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アフターアークプラズマ型酸素負イオン照射装置の開発 von 北見, 尚久, 酒見, 俊之, 野本, 淳一, 牧野, 久雄, 青木, 康, 山本, 哲也

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Defect centers and optical absorption edge of degenerated semiconductor ZnO thin films grown by a reactive plasma deposition by means of piezoelectric photothermal spectroscopy von Sakai, K., Kakeno, T., Ikari, T., Shirakata, S., Sakemi, T., Awai, K., Yamamoto, T.

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飛来粒子定量分析による反応性プラズマ蒸着Ga添加ZnO薄膜の成膜因子の解明 von 北見, 尚久, 酒見, 俊之, 野本, 淳一, 牧野, 久雄, 青木, 康, 加藤, 隆典, 山本, 哲也

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多結晶 Ga 添加 ZnO 透明導電膜の表面吸着子に与える酸素負イオン照射の効果 von 野本, 淳一, 牧野, 久雄, 北見, 尚久, 酒見, 俊之, 小畠, 雅明, 岡根, 哲夫, 藤森, 伸一, 山上, 浩志, 小林, 啓介, 山本, 哲也

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3D-ハイブリッドPIC/MCC法を用いた反応性プラズマ蒸着による膜厚分布の磁場依存性数値シミュレーション von 宮下, 大, 北見, 尚久, 酒見, 俊之, 青木, 康, 加藤, 隆典

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