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    Improvement of laser damage thresholds of fused silica by ultrasonic-assisted hydrofluoric acid etching

    Improvement of laser damage thresholds of fused silica by ultrasonic-assisted hydrofluoric acid etching von 李源, 严鸿维, 杨科, 姚彩珍, 王志强, 闫春燕, 邹鑫书, 袁晓东, 杨李茗, 巨新

    Veröffentlicht in Chinese physics B

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