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    Plasma Uniformity in a Dual Frequency Capacitively Coupled Plasma Reactor Measured by Optical Emission Spectroscopy

    Plasma Uniformity in a Dual Frequency Capacitively Coupled Plasma Reactor Measured by Optical Emission Spectroscopy von 赵国利 徐勇 尚建平 刘文耀 朱爱民 王友年

    Veröffentlicht in Plasma science & technology

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