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    スパッタ堆積Si酸化膜の抵抗スイッチングエネルギーの評価

    スパッタ堆積Si酸化膜の抵抗スイッチングエネルギーの評価 von 大村, 泰久, 赤野, 拓哉, 佐藤, 伸吾


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    SiO2/n-GaN 界面における堆積前処理及び高圧水蒸気処理の効果

    SiO2/n-GaN 界面における堆積前処理及び高圧水蒸気処理の効果 von 赤野, 拓哉, 上沼, 睦典, 石河, 泰明, 浦岡, 行治


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    堆積前処理がSiO2/n-GaN界面特性に与える影響

    堆積前処理がSiO2/n-GaN界面特性に与える影響 von 赤野, 拓哉, 上沼, 睦典, 冨永, 雄太, 石河, 泰明, 浦岡, 行治


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    DMAHを用いて成膜したAl2O3/GaN MOSの評価

    DMAHを用いて成膜したAl2O3/GaN MOSの評価 von 上沼, 睦典, 高橋, 清, 曽根原, 翔, 赤野, 拓哉, 藤本, 裕太, 石河, 泰明, 浦岡, 行治


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    スパッタ堆積SiO2膜の抵抗変化現象の特徴

    スパッタ堆積SiO2膜の抵抗変化現象の特徴 von 赤野, 拓哉, 山口, 凛太朗, 佐藤, 伸吾, 大村, 泰久


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