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    A high performance HfSiON/TaN NMOSFET fabricated using a gate-last process

    A high performance HfSiON/TaN NMOSFET fabricated using a gate-last process von 许高博 徐秋霞 殷华湘 周华杰 杨涛 牛洁斌 余嘉晗 李俊峰 赵超

    Veröffentlicht in Chinese physics B

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    Thermal stability of HfTaON films prepared by physical vapor deposition

    Thermal stability of HfTaON films prepared by physical vapor deposition von 许高博 徐秋霞

    Veröffentlicht in Journal of semiconductors

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