『X線分析の進歩』誌から読み取るX線分析の動向と今後 von 古川, 博朗, 西萩, 一夫

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Laboratory XAFSでの電子材料および薄膜の分析 von 西萩, 一夫

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有機物マトリックス中の微量元素の直接定量を目的とした単色化X線源を用いるエネルギー分散型蛍光X線装置の開発 von 脇阪, 達司, 森田, 尚喜, 若狭, 正信, 寺田, 慎一, 西萩, 一夫, 谷口, 一雄

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31p-TJ-13 実験室での軽元素EXAFSの測定 von 上條, 長生, 蔭山, 博之, 川端, 淳史, 西萩, 一夫, 谷口, 一雄

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Development of energy dispersive X-ray fluorescence spectrometer with monochromatic excitation for the direct determination of trace elements in organic matrices von WAKISAKA, Tatsushi, MORITA, Naoki, WAKASA, Masanobu, TERADA, Shinichi, NISHIHAGI, Kazuo, TANIGUCHI, Kazuo

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Trends and Future of X-ray Analysis from “Advances in X-ray Analysis” von FURUKAWA, Hiroaki, NISHIHAGI, Kazuo

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Total Reflection X-ray Fluorescence Spectrometry von TANIGUCHI, Kazuo, NINOMIYA, Toshio

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Development of a standard sample preparation method for total-reflection X-ray fluorescence analysis and its semiconductor applications von MORI, Yoshihiro, UEMURA, Kenichi

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Ultra-trace element analysis on Si wafer surface by total reflection X-ray photoelectron spectroscopy von IIJIMA, Yoshitoki, MIYOSHI, Kousuke, SAITO, Syuichi

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Probing into Residual Forensic Evidences: Application of Total Reflection X-ray Fluorescence Spectrometry von NINOMIYA, Toshio, NOMURA, Shigeaki, TANIGUCHI, Kazuo

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シリコンウェーハの表面分析 von 藤野, 允克, 角田, 成夫

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Surface Analysis of Silicon Wafer von FUJINO, Nobukatsu, SUMITA, Shigeo

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全反射蛍光X線分析法 von 谷口, 一雄, 二宮, 利男

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Development in Total Reflection X-Ray Fluorescence Analysis von KUNIMURA, Shinsuke

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全反射蛍光X線分析法の発展 von 国村, 伸祐

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全反射蛍光X線分析用シリコンウェハー標準試料の開発と半導体表面汚染分析への応用 von 森, 良弘, 上村, 賢一

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Rapid determination of trace phosphorus, sulfur, chlorine, bromine and iodine by energy dispersive X-ray fluorescence analysis with monochromatic excitations von WAKISAKA, Tatsushi, MORITA, Naoki, HIRABAYASHI, Tadashi, NAKAHARA, Taketoshi

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Ultra-Trace-Element Analysis Used with Total-Reflection X-ray Photoelectron Spectroscopy von IIJIMA, Yoshitoki, MIYOSHI, Kousuke

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全反射X線光電子分光法による微量元素分析 von 飯島, 善時, 三好, 康介

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単色化X線源を用いるエネルギー分散型蛍光X線による微量リン,硫黄,塩素,臭素及びヨウ素の迅速定量 von 脇阪, 達司, 森田, 尚喜, 平林, 忠, 中原, 武利

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