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26pWH-9 a-Si:Hにおける電子正孔の輻射再結合率の温度変化(光応答,領域4,半導体,メゾスコピック系・局在)
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23aXJ-1 a-Si:Hにおけるフォトルミネッセンス寿命のスペクトル依存性(I)(23aXJ 光応答,領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))
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23aXJ-2 a-Si:Hにおけるフォトルミネッセンス寿命のスペクトル依存性(II)(23aXJ 光応答,領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))
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27aYT-7 a-Si:H膜における低エネルギールミネッセンスの強度の温度変化と欠陥密度(化合物半導体・アモルファス,領域4(半導体, メゾスコピック系・局在))...
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27aXC-5 a-Si:Hにおける発光欠陥に関連したフォトルミネッセンスと光誘起現象(27aXC 光応答・量子閉じ込め,領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))...
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6pSB-9 a-Si:H系膜における光誘起欠陥生成と低エネルギールミネッセンスの寿命分解測定(II)(輸送現象,励起子,アモルファス,領域4)
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27aYG-5 a-Si:H膜の低エネルギールミネセンスの温度変化(化合物・輸送・アモルファス・不純物)(領域4)
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27aYT-8 a-Si:H膜における低エネルギールミネッセンスの寿命分布と欠陥密度(化合物半導体・アモルファス,領域4(半導体, メゾスコピック系・局在))...
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12aYB-3 a-Si : H 膜のルミネッセンスの温度変化と光誘起欠陥生成(低対称系・格子欠陥, 領域 4)
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