不足当量及び機器的/荷電粒子放射化分析による高純度鉄中の酸素,窒素,炭素及びホウ素の定量 von 重松, 俊男, 鹿野, 弘二, 米沢, 洋樹

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放射化分析によるシリコン単結晶中の極微量不純物 von 米沢, 洋樹

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中性子放射化分析法によるシリコンウェハー表面の銅の定量 von 米沢, 洋樹, 鹿野, 弘二, 重松, 俊男

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デュアル・コンパレーター法によるガドリニウムを含むフッ化物ガラス及びガラス原料中の希土類元素の中性子放射化分析 von 米沢, 洋樹, 重松, 俊男

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粒子励起X線分析による石英ガラス膜中のチタンの定量 von 鈴木, 裕史, 米沢, 洋樹, 安, 光保, 宮, 哲雄, 重松, 俊男

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10.荷電粒子放射化分析 von 米沢, 洋樹, 重松, 俊男

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2p-B-1 BaPb_<1-x>Bi_xO_3の組成分析 von 米沢, 洋樹, 鹿野, 弘二, 加藤, 正明, 重松, 俊男

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5p-F-5 チャカルタヤ山5,200mで観測したサイズ10^7以上の空気シャワーの構造 von 水本, 好彦, 平山, 修, 米沢, 洋樹, 菅, 浩一, 金子, 達之助, 村上, 一昭, 西, 克夫, 井上, 葵, P.K., MacKeown, BASJEグループ

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Substoichiometric and instrumental/charged particle activation analysis of oxygen, nitrogen, carbon and boron in high-purity iron von SHIGEMATSU, Toshio, SHIKANO, Koji, YONEZAWA, Hiroki

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Ultra Trace Impurities in Silicon Single Crystal by Activation Analysis von Yonezawa, Hiroki

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Fundamentals and Present Aspects of Ion Beam Technology. IV. Ion Beam Analysis. 10. Charged particle activation analysis von YONEZAWA, Hiroki, SHIGEMATSU, Toshio

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Determination of ultra-trace copper on silicon wafer by neutron activation analysis von YONEZAWA, Hiroki, SHIKANO, Koji, SHIGEMATSU, Toshio

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NAA of rare earth elements in fluoride glass and its raw materials containing gadolinium by dual comparator method von YONEZAWA, Hiroki, SHIGEMATSU, Toshio

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Determination of titanium in silica glass film by particle induced X-ray emission von SUZUKI, Yushi, YONEZAWA, Hiroki, YASU, Mitsuho, MIYA, Tetsuo, SHIGEMATSU, Toshio

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31p-B1-13 BaPb_<1-x>Bi_xO_3中の酸素欠陥の定量(低温) von 日高, 義和, 鹿野, 弘二, 米澤, 洋樹, 村上, 敏明

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