半導体Siウェーハの均一高速成膜法に関する研究 von 盛満, 和広, 佐々木, 隆史, 福田, 正直, 大黒, 崇弘, 菊田, 和重, 近久, 武美, 菱沼, 孝夫

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積層型減圧CVD装置におけるシリコン半導体成膜希薄ガス流動の可視化および数値シミュレーション von 佐々木, 隆史, 斎藤, 直子, 菊田, 和重, 近久, 武美, 菱沼, 孝夫, 盛満, 和広

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Conditions for Homogeneous and Rapid Deposition of Si Film on Semiconductor Wafers von MORIMITSU, Kazuhiro, SASAKI, Takafumi, FUKUDA, Masanao, DAIKOKU, Takahiro, KIKUTA, Kazushige, CHIKAHISA, Takemi, HISHINUMA, Takao

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Visualization and Numerical Simulation of Rarefied Gas Flow in Vertical Low-Pressure CVD Reactors for Thin Film Formation of Semiconductors von SASAKI, Takafumi, SAITO, Naoko, KIKUTA, Kazushige, CHIKAHISA, Takemi, HISHINUMA, Yukio, MORIMITSU, Kazuhiro

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