20　リソグラフィと放射線化学—レジストの放射線化学反応機構 von 田川, 精一

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量子ビームのナノ科学，特に最先端デバイスを支える次世代リソグラフィーへの応用 von 田川, 精一

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「匠」たちの足跡 第6回: 東京大学電子ライナック施設 von 上坂, 充, 勝村, 庸介, 田川, 精一

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高濃度溶液を用いたラジカルカチオンの反応性の研究 von 神戸, 正雄, 田牧, 諒哉, 田川, 精一, 菅, 晃一, 楊, 金峰, 吉田, 陽一

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電子線誘起による高分子薄膜における金属ナノ粒子の合成とパターニングに関する研究 von 山本, 洋揮, 古澤, 孝弘, 田川, 精一, マリグリナー, ジャンルイ, モスタファビ, メラン, ベローニ, ジャックリン

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23aZL-8 医療応用を目指したフォトカソード電子銃における電子ビームの光変調(ビームダイナミクス,ビーム源,ビーム物理領域) von 近藤, 孝文, 加嶋, 宏章, 楊, 金峰, 法澤, 公寛, 小方, 厚, 吉田, 陽一, 田川, 精一

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EUVレジスト用酸発生剤の電子受容性に及ぼす効果 von 遠藤, 政孝, 田川, 精一

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ポリマーバウンドPAGレジストとポリマーブレンドPAGレジストのレジスト性能評価に関する研究 von 山本, 洋揮, 田川, 精一

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EUVレジスト用酸発生剤の置換基効果 von 遠藤, 政孝, 田川, 精一

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現像アナライザーによるポリマーバウンドPAGレジストとポリマーブレンドPAGレジストの現像挙動に関する研究 von 山本, 洋揮, 古澤, 孝弘, 田川, 精一

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EUVレジスト用酸発生剤の理論的研究 von 遠藤, 政孝, 田川, 精一

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「シリコンテクノロジー分科会論文賞受賞記念講演」脱保護反応を利用した化学増幅型レジストへの極端紫外光照射により形成される化学勾配に関する理論的研究... von 古澤, 孝弘, 田川, 精一

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ラジエーションキュアリングにおける素反応と架橋反応 von 田川, 精一

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QCM法によるポリマーバウンドPAGレジストとポリマーブレンドPAGレジストの溶解挙動の研究 von 山本, 洋揮, 古澤, 孝弘, 田川, 精一

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2P064 ヘムPASセンサーの酸化還元にともなう構造変化(ヘム蛋白質) von 小林, 一雄, 田川, 精一, 横田, 奈緒, 黒河, 博文, 清水, 透

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励起正イオン von 田川, 精一

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紫外光電子分光(UPS)を使ったポリスチレン誘導体薄膜におけるイオン化ポテンシャルの研究 von 山本, 洋揮, 古澤, 孝弘, 田川, 精一

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EUV化学増幅型レジストの現像解析 von 山本, 洋揮, 田川, 精一, 三村, 岳由, 岩井, 武, 小野寺, 純一

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X線光電子分光(XPS)を使ったポリヒドロキシスチレン薄膜における酸発生剤の深さプロファイルの研究 von 山本, 洋揮, 古澤, 孝弘, 田川, 精一

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28pSH-6 フォトニック結晶による可視域放射光の発生 von 石丸, 毅, 阿達, 正浩, 斉藤, 直子, 小方, 厚, 古澤, 孝弘, 吉田, 陽一, 田川, 精一, 鷲尾, 方一, 柏木, 茂, 黒田, 隆之助

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