河北省战略性新兴产业上市公司金融支持效率研究 von 武莉莉, 王伟岭

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培养自学能力 von 王伟岭

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合并报表中有关新旧会计准则的差异探讨 von 王伟岭

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合并报表中有关新旧会计准则的差异探讨 von 王伟岭

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Slurry components of TiO2 thin film in chemical mechanical polishing von 段波 周建伟 刘玉岭 王辰伟 张玉峰

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Investigation on surface roughness in chemical mechanical polishing of TiO2 thin film von 段波 周建伟 刘玉岭 王辰伟 张玉峰

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Effect of novel alkaline copper slurry on 300 mm copper global planarization von 刘伟娟 刘玉岭 王辰伟 陈国栋 蒋勐婷 袁浩博 程鹏飞

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Synergetic effect of chelating agent and nonionic surfactant for benzotriazole removal on post Cu-CMP cleaning von 李彦磊 刘玉岭 王辰伟 李月

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Influence of oxidant passivation on controlling dishing in alkaline chemical mechanical planarization von 贾少华 刘玉岭 王辰伟 闫辰奇

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Mechanism analysis of the affect the copper line surface roughness after FA/O alkaline barrier CMP von 高娇娇 刘玉岭 王辰伟 崔晋

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A new weakly alkaline slurry for copper planarization at a reduced down pressure von 陈蕊 康劲 刘玉岭 王辰伟 蔡婷 李新

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Alkaline barrier slurry applied in TSV chemical mechanical planarization von 马锁辉 王胜利 刘玉岭 王辰伟 杨琰

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Effect of guanidine hydrochloride on removal rate selectivity and wafer topography modification in barrier CMP von 李海龙 康劲 刘玉岭 王辰伟 刘虹 高娇娇

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Stability for a novel low-pH alkaline slurry during the copper chemical mechanical planarization von 陈国栋 刘玉岭 王辰伟 刘伟娟 蒋勐婷 袁浩博

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Circuit-field coupled finite element analysis method for an electromagnetic acoustic transducer under pulsed voltage excitation von 郝宽胜 黄松岭 赵伟 王坤

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Coupled Stress-Electricity Model for Electromagnetic Emission Induced by Concrete Fracture von 韩进辉 黄松岭 王珅 赵伟

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Nanoscale guiding for cold atoms based on surface plasmons along the tips of metallic wedges von 王正岭 唐伟民 周明 高传玉

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Planarization properties of an alkaline slurry without an inhibitor on copper patterned wafer CMP von 王辰伟 刘玉岭 田建颖 牛新环 郑伟艳 岳红维

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An advanced alkaline slurry for barrier chemical mechanical planarization on patterned wafers von 王辰伟 刘玉岭 牛新环 田建颖 高宝红 张晓强

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Video Image Block-matching Motion Estimation Algorithm Based on Two-step Search von 金伟其 陈艳 王岭雪 刘斌 刘崇亮 沈亚中 张桂清

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