六方晶窒化ホウ素上におけるFe3O4薄膜の成長と評価 von 玄地, 真悟, 大坂, 藍, 服部, 梓, 渡邊, 賢司, 谷口, 尚, 田中, 秀和

Volltext

六方晶窒化ホウ素を基板としたVO2薄膜の成長とデバイス応用 von 山本, 真人, 玄地, 真悟, 神吉, 輝夫, 野内, 亮, 谷口, 尚, 渡邊, 賢司, 田中, 秀和

Volltext

六方晶窒化ホウ素上のVO2における抵抗跳躍の電極間距離依存性 von 玄地, 真悟, 山本, 真人, 神吉, 輝夫, 渡邊, 賢司, 谷口, 尚, 田中, 秀和

Volltext

六方晶窒化ホウ素上VO2の金属絶縁体相転移に伴う抵抗変化の素子サイズ依存性 von 玄地, 真悟, 山本, 真人, 神吉, 輝夫, 渡邊, 賢司, 谷口, 尚, 田中, 秀和

Volltext

六方晶窒化ホウ素上におけるVO₂薄膜の成長と評価 von 玄地, 真悟, 山本, 真人, 神吉, 輝夫, 渡邊, 賢司, 谷口, 尚, 田中, 秀和

Volltext

六方晶窒化ホウ素上におけるVO2薄膜の成長と評価（Ⅱ） von 玄地, 真悟, 重松, 晃次, 有冨, 翔大, 山本, 真人, 神吉, 輝夫, 渡邊, 賢司, 谷口, 尚, 村上, 恭和, 田中, 秀和

Volltext