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II型Siクラスレート膜の表面自然酸化過程
von
浅野, 友紀
,
浦野, 和俊
,
大橋, 史隆
,
久米, 徹二
,
伴, 隆幸
,
野々村, 修一
Veröffentlicht in
応用物理学会学術講演会講演予稿集
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II型Siクラスレート薄膜におけるフッ化水素酸処理および物性評価
von
浦野, 和俊
,
上原, 康暉
,
浅野, 友紀
,
大橋, 史隆
,
久米, 徹二
,
伴, 隆幸
,
野々村, 修一
Veröffentlicht in
応用物理学会学術講演会講演予稿集
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Artikel
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Gespeichert in:
3
型Siクラスレート薄膜に含まれる不純物の評価および低減
von
上原, 康暉
,
砂場, 昭吾
,
浦野, 和俊
,
大橋, 史隆
,
久米, 徹二
,
伴, 隆幸
,
山家, 光男
,
野々村, 修一
Veröffentlicht in
応用物理学会学術講演会講演予稿集
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応用物理学会学術講演会講演予稿集
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半導体
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