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1
先端デバイスのCMP後洗浄技術
von
河瀬, 康弘
,
草野, 智博
,
原田, 憲
,
竹下, 寛
Veröffentlicht in
精密工学会誌
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2
Cu-CMP洗浄後におけるCu表面状態の電気化学的評価
von
草野, 智博
,
原田, 憲
,
柴田, 俊明
,
河瀬, 康弘
Veröffentlicht in
Seimitsu Kōgakkaishi
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3
3D-IC用層間材料における無機フィラーの検討
von
山本, 英広
,
杉山, 雅哉
,
池本, 慎
,
桐谷, 秀紀
,
河瀬, 康弘
Veröffentlicht in
マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集
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Gespeichert in:
4
3D-IC用層間材料におけるマトリクスの検討
von
杉山, 雅哉
,
山本, 英広
,
竹下, 寛
,
池本, 慎
,
桐谷, 秀紀
,
河瀬, 康弘
Veröffentlicht in
マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集
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5
無機フィラーによる3D-IC用層間充填材の高熱伝導化
von
河瀬, 康弘
,
池本, 慎
,
桐谷, 秀紀
,
山崎, 正典
Veröffentlicht in
マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集
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マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集
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精密工学会誌
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