工学教育の歴史から今後の教育を考える von 水谷, 惟恭

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高専の強みを生かした高専の高度化 von 水谷, 惟恭

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セラミックスと電気化学 von 水谷, 惟恭

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高分解能分析電子顕微鏡による二酸化セリウム/イットリア安定化ジルコニア/シリコンヘテロ界面構造の原子スケール構造評価 von 木口, 賢紀, 脇谷, 尚樹, 水谷, 惟恭, 篠崎, 和夫

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Y2O3-Ta2O5混合ドープZrO2ゲート絶縁膜界面の高分解能観察 von 木口, 賢紀, 脇谷, 尚樹, 篠崎, 和夫, 水谷, 惟恭

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Preparation of ferromagnetic zinc-ferrite thin film by pulsed laser deposition in the magnetic field von Wakiya, N., Muraoka, K., Kadowaki, T., Kiguchi, T., Mizutani, N., Suzuki, H., Shinozaki, K.

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これからの技術者像とは, その教育はどうあるべきか von 亀山, 正俊, 雑賀, 高, 鈴木, 真二, 関, 昭義, 田口, 俊夫, 水谷, 惟恭, 桂, 晃洋

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YSZシード層によるSi (001) 基板上へのCeO2薄膜のエピタキシャル成長 von 木口, 賢紀, 脇谷, 尚樹, 篠崎, 和夫, 水谷, 惟恭

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Improvement of green cathodoluminescence of zinc oxide stacked films prepared by high-power excimer laser irradiation of sol–gel-derived precursors von Nagase, T., Kominami, H., Nakanishi, Y., Shinozaki, K., Mizutani, N.

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8大学工学教育プログラムにおける大学院教育に関する検討と試行 von 水谷, 惟恭

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低酸素圧下で合成したエピタキシャルLa0.5Sr0.5CoO3(LSCO) 薄膜の電気特性 von 脇谷, 尚樹, 篠崎, 和夫, 水谷, 惟恭

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SrTiO3シードバッファー層の導入によるPb(Zr, Ti)O3 (PZT) 薄膜の結晶成長 von 脇谷, 尚樹, 篠崎, 和夫, 水谷, 惟恭

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減圧熱プラズマ成膜法によるチタン酸鉛PbTiO3薄膜の合成に及ぼす成膜圧力の影響 von 永田, 真吾, 脇谷, 尚樹, 篠崎, 和夫, 増田, 善男, 水谷, 惟恭

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化学溶液法による (Bi, La)4Ti3O12/Pb(Zr, Ti)O3複合薄膜の電気的特性の比較 von 包, 定華, 脇谷, 尚樹, 篠崎, 和夫, 水谷, 惟恭

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さまざまな下部電極を導入したPZT薄膜の残留応力と誘電特性の変化 von 藤戸, 啓輔, 脇谷, 尚樹, 篠崎, 和夫, 水谷, 惟恭

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YSZ/SiOx/(001)Si薄膜のエピタキシャル成長における極薄SiOx層の役割 von 木口, 賢紀, 脇谷, 尚樹, 篠崎, 和夫, 水谷, 惟恭

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Pb(Mg1/3Nb2/3)O3/BaTiO3/Pt/Ti/SiO2/Si多層薄膜の構造, 誘電特性に対する残留応力の影響 von 陳, 軍華, 脇谷, 尚樹, 篠崎, 和夫, 水谷, 惟恭

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PLD法により作製したNi-Znフェライト薄膜の磁気特性に及ぼす組成, 結晶性の影響 von 水上, 智, 清水, 完, 脇谷, 尚樹, 篠崎, 和夫, 水谷, 惟恭

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PLD法によるSiO2/Si(001) 基板上エピタキシャルYSZ薄膜の室温合成 von 石垣, 寛和, 山田, 智明, 脇谷, 尚樹, 篠崎, 和夫, 水谷, 惟恭

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パルスレーザー蒸着法によるSr0.5Ba0.5Nb2O6薄膜の成膜ガス雰囲気と膜厚が配向性と表面形状に及ぼす影響 von 邱, 徳威, 脇谷, 尚樹, 篠崎, 和夫, 水谷, 惟恭

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