イオン注入を用いた中空構造SOI層のピラー形状制御による高効率低温転写法 von 山下, 知徳, 水上, 隆達, 東, 清一郎

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中空構造SOI層を用いた低温転写によるフレキシブル基板上での単結晶シリコンCMOS回路作製プロセスの構築 von 水上, 隆達, 山下, 知徳, 東, 清一郎

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中空構造SOI層を用いた低温転写における転写歩留まり向上とプラスチック基板上での単結晶シリコンTFTと論理回路の作製 von 水上, 隆達, 竹島, 真治, 山下, 知徳, 東, 清一郎

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中空構造SOI層を用いた低温転写における転写歩留まり向上とフレキシブル基板上での単結晶シリコンTFTとインバータ回路の作製 von 水上, 隆達, 竹島, 真治, 山下, 知徳, 東, 清一郎

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中空構造SOI層を用いた低温転写技術におけるPET基板上高転写率の実現 von 水上, 隆達, 中川, 明俊, 平松, 和樹, 竹島, 真治, 山下, 知徳, 東, 清一郎

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