Siへのクラスターイオン注入III　 − クラスターC低温co-implantの欠陥回復への効果 von 鉄田, 博, 濱本, 成顕, 永山, 勉, 酒井, 茂樹, 丹上, 正安, 海勢頭, 聖, 古賀, 雄二, 前原, 憲明, 河村, 泰典, 中島, 良樹, 田中, 浩平, 橋野, 義和, 橋本, 昌大, 吉見, 英樹, 瀬崎, 伸一

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Siへのクラスターイオン注入II - クラスターC　co-implantによるPの拡散抑制 von 鉄田, 博, 濱本, 成顕, 永山, 勉, 丹上, 正安, 海勢頭, 勢, 前原, 憲明, 河村, 泰典, 中島, 良樹, 橋野, 義和, 橋本, 昌大, 吉見, 英樹, 瀬崎, 伸一

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Siへのクラスターイオン注入I　- 熱処理後のB活性化 von 鉄田, 博, 濱本, 成顕, 永山, 勉, 丹上, 正安, 海勢頭, 勢, 前原, 憲明, 河村, 泰明, 中島, 良樹, 橋野, 義和, 橋本, 昌大, 吉見, 英樹, 瀬崎, 伸一, 川上, 喬子

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