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    Influence of different oxidants on the band alignment of HfO2 films deposited by atomic layer deposition

    Influence of different oxidants on the band alignment of HfO2 films deposited by atomic layer deposition von 樊继斌 刘红侠 高博 马飞 卓青青 郝跃

    Veröffentlicht in 中国物理B：英文版

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