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    Influences of different oxidants on the characteristics of HfAlO_x films deposited by atomic layer deposition

    Influences of different oxidants on the characteristics of HfAlO_x films deposited by atomic layer deposition von 樊继斌 刘红侠 马飞 卓青青 郝跃

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    Influence of different oxidants on the band alignment of HfO2 films deposited by atomic layer deposition

    Influence of different oxidants on the band alignment of HfO2 films deposited by atomic layer deposition von 樊继斌 刘红侠 高博 马飞 卓青青 郝跃

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    CHINESE PHYSICS B AUTHOR INDEX TO VOLUME 21

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