パルスイオンビーム蒸着法を用いた堆積·反応同時プロセスによるHf-Si-O薄膜の作製 von 長濱, 哲也, 有門, 経敏, 末松, 久幸, 江, 偉華, 八井, 浄

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「小特集/表面技術と半導体プロセス」の企画に当たって von 有門, 経敏

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用語解説 von 有門, 経敏

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IV. 薄膜のたい積において損傷をいかに抑えるか von 有門, 経敏, 岡野, 晴雄

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招待講演紫外レーザによる光化学反応の集積回路製造プロセスへの応用 von 堀池, 靖浩, 有門, 経敏, 関根, 誠, 岡野, 晴雄, 中瀬, 真

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低速陽電子ビームを用いたhigh-κ 膜の空隙評価 von 上殿, 明良, 後藤, 正和, 樋口, 恵一, 池内, 恒平, Salah, Abudul Hamid Alaa, 山部, 紀久夫, 白石, 賢二, 知京, 豊裕, 山田, 啓作, 北島, 洋, 三橋, 理一郎, 堀内, 淳, 鳥居, 和功, 有門, 経敏, 鈴木, 良一, 大平, 俊行

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3a-TA-11 超高分解能X線非弾性散乱 II. : 結晶ベンダー von 川田, 肇, 笹木, 俊哉, 藤井, 保彦, 浜谷, 望, 堀池, 靖浩, 有門, 経敏, 永井, 秀雄

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ドライエッチング技術の最近の動向 von 有門, 経敏

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光応用技術 [II] von 有門, 経敏, 秦, 信宏

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光化学反応の半導体プロセスへの応用 von 有門, 経敏, 関根, 誠, 岡野, 晴雄, 堀池, 靖浩

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Vacuum technology lecture. For ultra-high vacuum technology. 14. Light application technology. 2. Process technology using light. (1). Measurement and diagnosis technology using li... von ARIKADO, Tsunetoshi, HATA, Nobuhiro

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Application of photo Chemical Reaction to Semi-Conductor Process von ARIKADO, Tsunetoshi, SEKINE, Makoto, OKANO, Haruo, HORIIKE, Yasuhiro

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