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    TCADを用いたSiへのイオン注入とアニール効果

    TCADを用いたSiへのイオン注入とアニール効果 von 広田, 悠輝, 中口, 陽介, 足立, 拓磨, 高濱, 滉太, 向井, 浩二, 田中, 武


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