ミスト流を利用した機能膜作製手法「ミストCVD」の開発 von 川原村, 敏幸

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溶液系非真空薄膜作製手法ミストCVDによる二硫化モリブデン(MoS2)層状薄膜の作製 von 佐藤, 翔太, 坂本, 雅仁, 川原村, 敏幸

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ミストCVD法によるAlO x 薄膜作製に対するO 3 支援の効果 von 内田, 貴之, 川原村, 敏幸, 古田, 守, 眞田, 克

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ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体--スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て... von 王 大鵬, 川原村 敏幸, 李 朝陽

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界面制御による縦型パワーデバイス適用を目指したGaN MOSFET特性 von 富田, 英幹, 原田, 彩花, 大川, 峰司, 長里, 喜隆, 劉, 麗, 川原村, 敏幸

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Al₂O₃絶縁膜上に作製したGa-Sn-O TFT von 服部 一輝, 谷野 健太, 松田 時宜, 川原村 敏幸, 劉 麗, 木村 睦

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カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用 von 古田 寛, 川原村 敏幸, 古田 守

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ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製--大気圧下、低温成長への挑戦 von 川原村 敏幸, 織田 容征, 白幡 孝洋

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ミストCVDによって作製した硫化スズ(SnSx)薄膜に対する硫黄前駆体が与える影響の検討 von 佐藤, 翔太, 刘, 丽, 鄧, 太 江, 川原村, 敏幸

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ミストCVD法の薄膜作製におけるファインチャネルおよび衝突混合の効果 von 川原村, 敏幸, 西中, 浩之, 藤田, 静雄

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ミストCVD法における金属化合物と反応場雰囲気の影響 von 坂本, 雅仁, 川原村, 敏幸

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ミストCVD法による表面平坦性の優れたα-Ga2O3薄膜の作製 von 安岡, 龍哉, 尾﨑, 珠子, 田頭, 侑貴, 刘, 丽, ダン, タイジャン, 川原村, 敏幸

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ミストCVDによる燃料電池用Sn系導電膜の作製とその特性 von 上田, 真理子, 刘, 丽, Giang, DANG Tai, 小崎, 智子, 柳本, 博, 川原村, 敏幸

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ミストCVD法によるn+-Si(100)基板上への強誘電体HfO2薄膜の作製とその電気特性評価 von 田原, 大祐, 西中, 浩之, 野田, 実, 佐藤, 翔太, 川原村, 敏幸, 吉本, 昌広

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ミストCVDにより作製した硫化スズ薄膜の特性評価 von 佐藤, 翔太, 坂本, 雅仁, 西, 美咲, 刘, 丽, ルトンジャン, ピモンパン, 鄧, 太 江, 川原村, 敏幸

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ミストCVD法で作製されたATO薄膜の電気的および光学的特性 von 上田, 真理子, 刘, 丽, 佐藤, 翔太, ダン, ジャン, 川原村, 敏幸, 藤田, 静雄, 織田, 容征, 平松, 孝浩

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ミストCVDにおける薄膜成長メカニズム von 川原村, 敏幸, 西, 美咲, 刘, 丽, 坂本, 雅仁, ﾋﾟﾓﾝﾊﾟﾝ, ﾙﾄﾝｼﾞｬﾝ, 佐藤, 翔太, 上田, 真理子, 安岡, 達也, 長谷川, 諒, 田頭, 侑貴, 尾崎, 珠子, 鄧, 太 江

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ミストCVD法における原料溶媒が薄膜成長に及ぼす影響 von 坂本, 雅仁, 安岡, 龍哉, 西, 美咲, 刘, 丽, ﾋﾟﾓﾝﾊﾟﾝ, ﾙﾄﾝｼﾞｬﾝ, 佐藤, 翔太, 上田, 真理子, 田頭, 侑貴, 長谷川, 諒, 尾崎, 珠子, 鄧, 太 江, 川原村, 敏幸

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ミストCVD法によるn型およびp型ZnO成膜への挑戦 von 西, 美咲, 刘, 丽, ルトンジャン, ピモンパン, 佐藤, 翔太, 上田, 真理子, 安岡, 龍也, 長谷川, 諒, 田頭, 侑貴, 尾崎, 珠子, 鄧, 太 江, 川原村, 敏幸

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ミストCVD における酸化亜鉛薄膜形成時の水の効果 von ルトンジャン, ピモンパン, 西, 美咲, 川原村, 敏幸, 坂本, 雅仁, 刘, 丽, 佐藤, 翔太, 上田, 真理子, 安岡, 龍哉, 長谷川, 諒, 尾崎, 珠子, 鄧, 太 江

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