Synthesis and Property of Tannic Acid Derivatives and Their Application for Extreme Ultraviolet Lithography System von Kudo, Hiroto, Ohori, Shizuya, Takeda, Hiroya, Ogawa, Hiroki, Watanabe, Takeo, Yamamoto, Hiroki, Kozawa, Takahiro

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金ナノパターン上のジチオールで修飾した金属ナノ粒子の配列制御 von 山本, 洋揮, 古澤, 孝弘, 大谷, 文章

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EUV化学増幅型レジストにおける感度向上へのメタル増感剤の役割 von 山本, 洋揮, Yannick, Vesters, Jing, Jiang, Danilo, de Simone, Geert, Vandenberghe, 古澤, 孝弘

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過渡吸収分光によるシンチレータにおける高速消光の観測 von 越水, 正典, 室屋, 裕佐, 山下, 真一, 山本, 洋揮, 柳田, 健之, 藤本, 裕, 浅井, 圭介

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フッ素系EUVレジストモデル分子の放射線誘起初期過程 von 岡本, 一将, 山本, 洋揮, 小林, 一雄, 古澤, 孝弘

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電子線誘起による高分子薄膜における金属ナノ粒子の合成とパターニングに関する研究 von 山本, 洋揮, 古澤, 孝弘, 田川, 精一, マリグリナー, ジャンルイ, モスタファビ, メラン, ベローニ, ジャックリン

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反応性ガスクラスターインジェクションを用いた斜め2方向エッチングによる3D構造の作成(II) von 瀬木, 利夫, 山本, 洋揮, 古澤, 孝弘, 荘所, 正, 小池, 国彦, 青木, 学聡, 松尾, 二郎

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トップダウン・ボトムアップ技術の融合による金属ナノ粒子の位置制御 von 山本, 洋揮, 大谷, 文章, 古澤, 孝弘

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ニトロフェニル自己組織化単分子膜における電子線誘起極性変化によるブロック共重合体のラメラ配向 von 山本, 洋揮, Dawson, Guy, Robinson, Alex P.G., 古澤, 孝弘

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過渡吸収分光によるBi4Ge3O12での励起状態緩和過程の解析 von 越水, 正典, 山下, 真一, 室屋, 裕佐, 山本, 洋揮, 柳田, 健之, 藤本, 裕, 浅井, 圭介

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ピコ秒からマイクロ秒に至る過渡吸収分光によるEu:SrI2におけるエネルギー移動および消光過程の解析 von 越水, 正典, 室屋, 裕佐, 山本, 洋揮, 山下, 真一, 櫻木, 史郎, 柳田, 健之, 藤本, 裕, 浅井, 圭介

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反応性ガスクラスターインジェクションを用いた斜め2方向エッチングによる3D構造の作成 von 瀬木, 利夫, 山本, 洋揮, 古澤, 孝弘, 荘所, 正, 小池, 国彦, 青木, 学聡, 松尾, 二郎

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過渡吸収分光によるCsI:Tlでのエネルギー移動過程の解析 von 越水, 正典, 山下, 真一, 室屋, 裕佐, 山本, 洋揮, 柳田, 健之, 藤本, 裕, 浅井, 圭介

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アセタール基で保護したノーリア誘導体に基づいたレジスト材料の電子線照射に対する応答性の系統的な研究 von 山本, 洋揮, 工藤, 宏人, 古澤, 孝弘

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化学増幅型レジストへのスルホン化合物の添加効果 von 岡本, 一将, 藤井, 槙哉, 山本, 洋揮, 古澤, 孝弘, 井谷, 俊郎

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メタルレジストの反応機構に関する研究 von 石原, 智志, 山本, 洋揮, Santillan, Jelius, 井谷, 俊郎, 古澤, 孝弘

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過渡吸収分光によるEu:SrI2におけるホスト励起状態の解析 von 越水, 正典, 室屋, 裕佐, 山本, 洋揮, 櫻木, 史郎, 柳田, 健之, 藤本, 裕, 浅井, 圭介

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過渡吸収分光によるCdWO4での励起状態緩和過程の解析 von 越水, 正典, 山下, 真一, 室屋, 裕佐, 山本, 洋揮, 柳田, 健之, 藤本, 裕, 浅井, 圭介

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ポリビニルピロリドン微細構造上でのAuナノ粒子形成と制御 von 佃, 諭志, 岡本, 一将, 山本, 洋揮, 古澤, 孝弘

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過渡吸収分光によるCe:LiCaAlF6におけるホスト励起状態の解析 von 越水, 正典, 室屋, 裕佐, 山本, 洋揮, 柳田, 健之, 福田, 健太郎, 藤本, 裕, 浅井, 圭介

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