26aXZB-7 J-PARC偏極中性子反射率計の現状と展望I(26aXZB 領域10,ビーム物理領域合同 X線・粒子線(中性子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))... von 武田, 全康, 山崎, 大, 林田, 洋寿, 久保田, 正人, 丸山, 龍治, 曽山, 和彦, 朝岡, 秀人, 山崎, 竜也, 吉田, 登, 坂口, 佳史, 佐藤, 淳一, 水沢, まり, 平野, 辰巳, 伊藤, 崇芳, 稲村, 泰弘, 及川, 健一, 大原, 高志, 片桐, 政樹, 桐山, 幸治, 金子, 耕士, 坂佐井, 馨, 篠原, 武尚, 鈴木, 淳市, 鈴谷, 賢太郎, 高橋, 伸明, 藤, 健太郎, 中谷, 健, 中村, 龍也, 山岸, 秀志, 相澤, 一也, 神山, 崇, 新井, 正敏

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26aXZB-7 J-PARC偏極中性子反射率計の現状と展望I(26aXZB 領域10,ビーム物理領域合同 X線・粒子線(中性子),ビーム物理領域) von 武田, 全康, 山崎, 大, 林田, 洋寿, 久保田, 正人, 丸山, 龍治, 曽山, 和彦, 朝岡, 秀人, 山崎, 竜也, 吉田, 登, 坂口, 佳史, 佐藤, 淳一, 水沢, まり, 平野, 辰巳, 伊藤, 崇芳, 稲村, 泰弘, 及川, 健一, 大原, 高志, 片桐, 政樹, 桐山, 奉治, 金子, 耕士, 坂佐井, 馨, 篠原, 武尚, 鈴木, 淳市, 鈴谷, 賢太郎, 高橋, 伸明, 藤, 健太郎, 中谷, 健, 中村, 龍也, 山岸, 秀志, 相澤, 一也, 神山, 崇, 新井, 正敏

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20aAG-4 J-PARC偏極中性子反射率計の開発(IV)(20aAG X線・粒子線(中性子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン)) von 武田, 全康, 山崎, 大, 林田, 洋寿, 久保田, 正人, 丸山, 龍治, 曽山, 和彦, 朝岡, 秀人, 山崎, 竜也, 吉田, 登, 坂口, 佳史, 水沢, まり, 平野, 辰巳, 伊藤, 崇芳, 稲村, 泰弘, 及川, 健一, 大原, 高志, 片桐, 政樹, 金子, 耕士, 坂佐井, 馨, 篠原, 武尚, 鈴木, 淳市, 鈴谷, 賢太郎, 高橋, 伸明, 藤, 健太郎, 中谷, 健, 中村, 龍也, 山岸, 秀志, 相澤, 一也, 神山, 崇, 新井, 正敏

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25pCL-10 試料垂直型偏極中性子反射率計「写楽」(BL17)の現状(25pCL X線・粒子線(中性子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン)) von 武田, 全康, 山崎, 大, 林田, 洋寿, 丸山, 龍治, 曽山, 和彦, 久保田, 正人, 朝岡, 秀人, 山崎, 竜也, 坂佐井, 馨, 藤, 健太郎, 中村, 龍也, 山岸, 秀志, 及川, 健一, 中谷, 健, 稲村, 泰弘, 篠原, 武尚, 有馬, 寛, 金子, 耕士, 吉田, 登, 坂口, 佳史, 水沢, まり, 伊藤, 嵩芳, 大原, 高志, 鈴木, 淳市, 平野, 辰巳, 鈴谷, 賢太郎, 相澤, 一也, 神山, 嵩, 新井, 正敏

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格子不整合Sr/H-Si(111)における埋もれた水素単原子層界面の中性子反射率測定 von 山崎, 竜也, 山崎, 大, 朝岡, 秀人, 田口, 富嗣, 社本, 真一, 豊島, 安健

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24aWZ-9 J-PARC偏極中性子反射率計の開発(III)(24aWZ X線・粒子線(中性子),領域10(誘電体格子欠陥,X線・粒子線フォノン)) von 武田, 全康, 山崎, 大, 丸山, 龍治, 林田, 洋寿, 山崎, 竜也, 曽山, 和彦, 平野, 辰巳, 及川, 健一, 坂佐井, 馨, 中村, 龍也, 藤, 健太郎, 山岸, 秀志, 片桐, 政樹, 高橋, 伸明, 篠原, 武尚, 中谷, 健, 大原, 高志, 金子, 耕士, 鈴谷, 健太郎, 鈴木, 淳市, 相澤, 一也, 神山, 崇, 新井, 正敏

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1P1-10 ALD-Al_2O_3に埋め込まれた多結晶シリコンナノワイヤーの光音響分光による研究(ポスターセッション) von 宮崎, 尚, 守本, 純, 加藤, 慎也, 山崎, 竜也, 宮島, 晋介

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Ge/Si(111)-7×7ヘテロエピタキシャル成長におけるストレスその場測定 von 朝岡, 秀人, 山崎, 竜也, 社本, 真一, ARNOLD, Alguno, 後藤, 成一, 末光, 眞希

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ヘテロエピタキシャル成長時における薄膜ストレス遷移と表面形態の相関 von 魚住, 雄輝, 山崎, 竜也, 朝岡, 秀人

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1P1-11 多結晶シリコンナノワイヤーの光音響分光による評価(ポスターセッション) von 宮崎, 尚, 守本, 純, 加藤, 慎也, 山崎, 竜也, 石川, 亮佑, 宮島, 晋介, 小長井, 誠

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17aC07 水素終端Si基板上の薄膜成長過程における歪み、内部応力のその場観察(結晶評価・その場観察(2),第35回結晶成長国内会議) von 朝岡, 秀人, 山崎, 竜也, 社本, 真一

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多結晶シリコンナノワイヤの水素化処理およびキャリアライフタイム評価 von 山崎, 竜也, 加藤, 慎也, 宮島, 晋介, 小長井, 誠

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Solid-phase crystallization of amorphous silicon nanowire array and optical properties von Ishikawa, Ryousuke, Kato, Shinya, Yamazaki, Tatsuya, Kurokawa, Yasuyoshi, Miyajima, Shinsuke, Konagai, Makoto

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多結晶シリコンナノワイヤのキャリアライフタイム評価 von 加藤, 慎也, 山崎, 竜也, 宮島, 晋介, 小長井, 誠

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ナノクラスター形成によるSi(110)表面再構成構造の変化 von 横山, 有太, 山崎, 竜也, 朝岡, 秀人

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凝集したシリコンナノワイヤの光学解析 von 加藤, 慎也, 森田, 尊彦, 山崎, 竜也, 宮島, 晋介, 小長井, 誠

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太陽電池応用を目指したアモルファスナノワイヤーの固相結晶化 von 石川, 亮佑, 山崎, 竜也, 宮島, 晋介, 小長井, 誠

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サーファクタントを利用したGe/Siヘテロ成長過程におけるストレス・表面構造の同時観察 von 朝岡, 秀人, 山崎, 竜也, 社本, 真一, 末光, 眞希

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共鳴核反応法による格子不整合Sr/H-Si(111)における水素単原子層界面の測定 von 山崎, 竜也, 山本, 春也, 朝岡, 秀人, 田口, 富嗣, 社本, 真一

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Initial growth stage of a highly mismatched strontium film on a hydrogen-terminated silicon (111) surface von Asaoka, Hidehito, Yamazaki, Tatsuya, Shamoto, Shin-ichi

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