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高Q値ナノ共振器を用いたシリコンラマンレーザの温度特性評価
von
安田, 孝正
,
山内, 悠起子
,
浅野, 卓
,
野田, 進
,
高橋, 和
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応用物理学会学術講演会講演予稿集
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結晶方位45度回転SOI基板を用いたナノ共振器シリコンラマンレーザ
von
山内, 悠起子
,
高橋, 和
,
浅野, 卓
,
野田, 進
Veröffentlicht in
応用物理学会学術講演会講演予稿集
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