多元素分子イオン注入誘起欠陥の熱的挙動の加熱TEMその場観察 –CH3Oイオン注入誘起EOR欠陥の熱的分解挙動の反応速度論的解析 von 鈴木, 陽洋, 廣瀬, 諒, 門野, 武, 小林, 弘治, 柾田, 亜由美, 奥山, 亮輔, 古賀, 祥泰, 栗田, 一成

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P-5-05　重症心身障害児（者）施設における外来栄養食事指導の3年間の報告 von 小林, 弘治, 上石, 晶子, 有本, 潔

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P-1-C26　当センターの摂食療法セミナーで管理栄養士が関わった8年間の報告 von 小林, 弘治, 藤本, 淳平, 岸, さおり, 上石, 晶子, 有本, 潔

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3次元積層型CIS向け多元素分子イオン注入エピウェーハの特性（I） CH2P注入エピウェーハの注入レンジにおける水素脱離挙動の理論解析... von 奥山, 亮輔, 門野, 武, 柾田, 亜由美, 鈴木, 陽洋, 小林, 弘治, 重松, 理史, 廣瀬, 諒, 古賀, 祥泰, 栗田, 一成

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3次元積層型CIS向け多元素分子イオン注入エピウェーハの特性(Ⅱ - CH2Pイオン注入による白キズ欠陥抑制のメカニズム解析 von 門野, 武, 廣瀬, 諒, 柾田, 亜由美, 鈴木, 陽洋, 小林, 弘治, 奥山, 亮輔, 古賀, 祥泰, 福山, 敦彦, 栗田, 一成

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3次元積層型CIS向け分子イオン注入エピタキシャルウェーハの特性（Ⅲ） -シリコン系分子イオン注入のゲッタリング特性 von 廣瀬, 諒, 門野, 武, 柾田, 亜由美, 奥山, 亮輔, 小林, 弘治, 鈴木, 陽洋, 古賀, 祥泰, 栗田, 一成

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3次元積層型CIS向け分子イオン注入エピタキシャルウェーハの特性（IV） -Dark current spectroscopy法によるエピタキシャル層注入ウェーハの白キズ欠陥の抑制メカニズム解析... von 柾田, 亜由美, 門野, 武, 奥山, 亮輔, 廣瀬, 諒, 小林, 弘治, 鈴木, 陽洋, 古賀, 祥泰, 栗田, 一成

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3次元積層型CIS向け分子イオン注入エピタキシャルウェーハの特性（II） –CH4Nイオン注入誘起欠陥の熱的分解挙動の加熱TEMその場観察 von 鈴木, 陽洋, 門野, 武, 廣瀬, 諒, 小林, 弘治, 柾田, 亜由美, 奥山, 亮輔, 古賀, 祥泰, 栗田, 一成

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3次元積層型CIS向け分子イオン注入エピタキシャルウェーハの特性（I） -炭化水素分子イオン注入ウェーハによるSiO2/Si界面準位欠陥の低減... von 奥山, 亮輔, 門野, 武, 柾田, 亜由美, 鈴木, 陽洋, 小林, 弘治, 重松, 理史, 廣瀬, 諒, 古賀, 祥泰, 栗田, 一成

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P-5-05. 重症心身障害児 (者) 施設における外来栄養食事指導の3年間の報告 von 小林弘治, 上石晶子, 有本潔

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高感度CMOSイメージセンサ向けシリコンウェーハの製品設計 -炭化水素分子イオン注入によるSiO2/Si界面準位の制御 von 奥山, 亮輔, 柾田, 亜由美, 鈴木, 陽洋, 小林, 弘治, 重松, 理史, 廣瀬, 諒, 門野, 武, 古賀, 祥泰, 栗田, 一成

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炭化水素分子イオン注入領域における銅ゲッタリングに対する3次元アトムプローブを用いた酸素の影響解析 von 重松, 理史, 奥山, 亮輔, 廣瀬, 諒, 柾田, 亜由美, 門野, 武, 小林, 弘治, 鈴木, 陽洋, 古賀, 祥泰, 栗田, 一成

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CMOSイメージセンサ向け分子イオン注入エピタキシャルウェーハの製品特性（II） –CH4Nイオン注入エピタキシャルウェーハの基礎特性 von 鈴木, 陽洋, 門野, 武, 廣瀬, 諒, 奥山, 亮輔, 柾田, 亜由美, 重松, 理史, 小林, 弘治, 古賀, 祥泰, 栗田, 一成

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CMOSイメージセンサ向け分子イオン注入エピタキシャルウェーハの製品特性（Ⅰ） -水素脱離挙動の反応速度論解析 von 奥山, 亮輔, 柾田, 亜由美, 鈴木, 陽洋, 小林, 弘治, 重松, 理史, 廣瀬, 諒, 門野, 武, 古賀, 祥泰, 栗田, 一成

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Si単結晶中の点欠陥形成に与えるドーパントと平面応力の複合効果に関する第一原理解析 von 小林, 弘治, 山岡, 俊太, 末岡, 浩治

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応力印加Ge単結晶中におけるドーパント近傍の点欠陥形成に関する第一原理解析(2) von 山岡, 俊太, 小林, 弘治, 末岡, 浩治

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P-1-F24　重症心身障害児（者）施設における福山型筋ジストロフィーの患者の体成分分析と基礎代謝量評価の試み von 小林, 弘治, 明城, 和子, 上石, 晶子, 有本, 潔

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デバイス工程中の炭素クラスター注入領域の水素吸着脱離挙動解析 von 奥山, 亮輔, 柾田, 亜由美, 小林, 弘治, 重松, 理史, 廣瀬, 諒, 門野, 武, 古賀, 祥泰, 奥田, 秀彦, 栗田, 一成

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分子イオン注入エピウェーハの製品特性（４）-フラッシュランプ熱処理による注入欠陥の結晶性回復挙動解析 von 小林, 弘治, 奥山, 亮輔, 柾田, 亜由美, 重松, 理史, 廣瀬, 諒, 古賀, 祥泰, 奥田, 秀彦, 栗田, 一成

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Si単結晶固液界面における点欠陥取り込みに与える熱応力とドーパントの複合効果 von 小林, 弘治, 山岡, 俊太, 末岡, 浩治

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