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    薄型基板上へのGeドットマスクを用いた光閉じ込め構造の作製と太陽電池への応用

    薄型基板上へのGeドットマスクを用いた光閉じ込め構造の作製と太陽電池への応用 von 太田, 湧士, 後藤, 和泰, 黒川, 康良, 宇佐美, 徳隆, Yurasov, Dmitrij, Novikov, Alexey, Shaleev, Mikhail


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    Geドットマスクを用いた光閉じ込め構造の作製とa-Si:Hパッシベーション：Ge成長温度の効果

    Geドットマスクを用いた光閉じ込め構造の作製とa-Si:Hパッシベーション：Ge成長温度の効果 von 太田, 湧士, 後藤, 和泰, 黒川, 康良, 宇佐美, 徳隆, Yurasov, Dmitrij, Novikov, Alexey, Shaleev, Mikhail


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    ガスソース分子線エピタキシー法による高被覆率Geドットマスクを用いた光閉じ込め構造の作製

    ガスソース分子線エピタキシー法による高被覆率Geドットマスクを用いた光閉じ込め構造の作製 von 太田, 湧士, 本部, 惇史, 後藤, 和泰, 黒川, 康良, 宇佐美, 徳隆, ドミトリー, ユラソフ, アレクシー, ナビコフ, ミカエル, シャリーブ


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