粒子分散型機能めっき von 大高, 徹雄

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めっきによる硬質皮膜の形成 von 大高, 徹雄

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ホウ水素化合物を還元剤とする無電解めっきの動向 von 大高, 徹雄

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無電解ニッケルを応用した電着法によるプリント基板の製造 von 大高, 徹雄

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ピロリン酸銅メッキ浴の現場的管理 von 大高, 徹雄

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ピロリン酸銅メッキ von 大高, 徹雄

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欧州におけるメッキ設備の自動化の傾向 von 大高, 徹雄

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複合めっきによる高分子粒子分散層とその性質 von 松村, 宗順, 大高, 徹雄

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高電流密度におけるニッケルの析出 (1) von 大高, 徹雄

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濃厚シアン浴の電解酸化法と廃水処理 von 大高, 徹雄

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クロムメッキにおける耐食性・メッキ速度について-アサヒクロム (CUR・CUH・CUF) を使っての実験例 von 大高, 徹雄

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複合めっき面 von 大高, 徹雄, 松村, 宗順

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Cr-SiC複合皮膜の作製と摩耗特性 von 高谷, 松文, 松永, 正久, 大高, 徹雄

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めっき浴の自動管理 von 大高, 徹雄, 荒木, 建

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コンピュータ用高密度ハードディスクのための下地めっき技術を中心としたシステム開発 von 大高, 徹雄, 荒木, 建, 仲村, 太一, 松井, 冨士夫, 斉藤, 昌弘, 橋本, 滋雄

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複合めっきによる新しい機能材料の作成と応用 von 松村, 宗順, 大高, 徹雄

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無電解はんだめっきによる表面実装 von 久保, 元伸, 上玉, 利徹, 堀田, 輝幸, 木曽, 雅之, 内田, 廣記, 大高, 徹雄

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電析によるCr-C-ZrO2, Al2O3複合皮膜の作製 von 高谷, 松文, 松永, 正久, 大高, 徹雄

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三価クロムめっき浴からのCr-SiC, Cr-Diamond 複合皮膜 von 高谷, 松文, 松永, 正久, 大高, 徹雄

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硫酸第二クロム (III) -ギ酸カリウム浴からのクロムめっきのかたさ von 高谷, 松文, 松永, 正久, 大高, 徹雄

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