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    HCl表面処理とプラズマ励起原子層堆積SiNx膜によるAlGaN/GaN HEMTの表面安定化

    HCl表面処理とプラズマ励起原子層堆積SiNx膜によるAlGaN/GaN HEMTの表面安定化 von 鈴木, 貴之, 土屋, 晃祐, 大保, 崇博, 赤澤, 良彦, 下野, 貴史, 松本, 滉太, 江口, 卓也, 岩田, 直高


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