Cu配線層中に形成した高オンオフ比P型酸化物FET von 砂村, 潤, 金子, 貴昭, 古武, 直也, 齋藤, 忍, 成広, 充, 五十嵐, 信行, 羽根, 正巳, 林, 喜宏

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講演奨励賞受賞記念講演｣LSI多層配線中に高耐圧インターフェイスを実現するInGaZnOを用いたBEOLトランジスタ技術 von 金子, 貴昭, 井上, 尚也, 齋藤, 忍, 古武, 直也, 林, 喜宏

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LSI多層配線中に高耐圧インターフェイスを実現するInGaZnOを用いたBEOLトランジスタ技術 von 金子, 貴昭, 井上, 尚也, 齋藤, 忍, 古武, 直也, 林, 喜宏

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InGaZnOチャネルの酸素制御とGate/Drain Offset構造によるBEOLトランジスタの高信頼化 von 金子, 貴昭, 井上, 尚也, 齋藤, 忍, 古武, 直也, 砂村, 潤, 川原, 潤, 羽根, 正巳, 林, 喜宏

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NiZnフェライト/TaNの多層化による磁気特性の向上 von 金子, 貴昭, 井上, 尚也, 古武, 直也, 林, 喜宏

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Low-k 膜の組成制御による微細Cu 配線の均一性と信頼性の向上 von 久米, 一平, 植木, 誠, 井上, 尚也, 川原, 潤, 五十嵐, 信行, 齋藤, 忍, 古武, 直也, 林, 喜宏

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テーパ角制御によるポーラスLow-k/Cuビア配線の高信頼化 von 久米, 一平, 川原, 潤, 井上, 尚也, 古武, 直也, 齋藤, 忍, 林, 喜弘

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高速ロジック混載DRAMに向けた多孔質Low-k膜層へのシリンダMIM容量形成技術 von 肱岡, 健一郎, 井上, 尚也, 久米, 一平, 川原, 潤, 古武, 直也, 齋藤, 忍, 小野寺, 貴弘, 山本, 博則, 間部, 謙三, 長谷, 卓, 林, 喜宏

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An Axial Tension Control of Screw Thread Based on a Prediction Performed during Fastening : A Trial for the Calibrated-Wrench Method von KASEI, Shinji, NISHINO, Naoya, MATSUOKA, Hirohito, SUKOBOSHI, Takesi

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