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マイクロ波生成酸素ラジカル照射によるGe表面の酸化
von
梁池, 昂生
,
原田, 力維
,
柳, 炳學
,
関, 渓太
,
石崎, 博基
,
王谷, 洋平
,
佐藤, 哲也
,
福田, 幸夫
Veröffentlicht in
応用物理学会学術講演会講演予稿集
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